激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响

编号：NMJS07224

篇名：激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响

作者：谢磊 雷小华 谭小刚 刘显明 邓益俊 陈伟民

关键词： 碳纳米材料 激光功率密度 光照还原 氧化石墨烯 透过率 电阻率

机构： 重庆大学光电工程学院光电技术及系统教育部重点实验室

摘要： 采用488nm连续激光在相同曝光量条件下对氧化石墨烯样品进行光照还原实验,并通过透射率和电阻率来表征还原氧化石墨烯的性质.结果表明:在还原过程中,通过透过率和电阻率表征的还原程度呈现相同的变化趋势.此外,还原过程分为两个步骤:达到相对稳定状态之前和达到相对稳定状态.在达到相对稳定状态之前,激光功率密度越低,样品的还原程度越高;但当达到相对稳定的状态后,激光功率密度越高,样品的还原程度越高.基于rGO中含氧官能团的变化,通过光子穿透能力和光对rGO的带隙调制作用对这一现象进行了分析.