铜基体上类石墨膜结合强度评价及其与干摩擦性能关系

编号：CPJS06731

篇名：铜基体上类石墨膜结合强度评价及其与干摩擦性能关系

作者：陈垚 丁兰 李红伟 林基辉 鲍明东

关键词： 铜合金 类石墨碳膜 附着性能 干磨 磨损率

机构： 长安大学材料科学与工程学院 宁波工程学院材化学院 太原理工大学材料科学与工程学院

摘要： 用非平衡磁控溅射离子镀技术在铜合金上制备了不同Ti含量的类石墨碳膜,用维氏压入、洛氏压入、划痕等方法测试薄膜的附着性能,用高速线性往复磨损实验机检测薄膜的干磨性能,并用光学显微镜、白光干涉仪观察磨痕。结果表明:压痕法更适合评价软基体上硬膜的结合强度,且维氏压入法因加载载荷较小,基体塑性变形小,评定的结合强度与干摩擦磨损时膜基体系的耐磨性具有对应关系。当靶电流为0.2 A时,铜合金上的类石墨膜与对磨球的摩擦系数和磨损率达最小值,分别为0.14和2.89×10-16m3/(N·m)。划痕法不适合用来快速评定和预测软基硬膜体系的结合强度。载荷较小的维氏压入法具有更好的结合强度鉴别区分度。