HClO_4-CrO_3-石墨层间化合物的制备及其性能

编号：CPJS00635

篇名：HClO_4-CrO_3-石墨层间化合物的制备及其性能

作者：周明善; 刘丽梅; 李澄俊; 陶勇;

关键词：石墨层间化合物; 膨胀容积; 膨胀石墨; 化学氧化;

机构： 云南广播电视大学化工学院; 南京理工大学化工学院;

摘要： 以天然鳞片石墨、CrO3、HClO4为原料,采用化学氧化法制备石墨层间化合物(GIC);研究了反应物用量、反应时间、反应温度对石墨层间化合物膨胀容积的影响。结果表明:按石墨∶三氧化铬∶高氯酸(质量比)=1∶0.3∶5,反应温度30℃,反应时间60min的条件,可制得膨胀容积为555mL.g-1的石墨层间化合物。采用FTIR、XRD、TG等技术对石墨层间化合物的组成、结构进行表征和分析得知:石墨层间的插入物为ClO4-、Cr2O72-。GIC性能特点测试结果说明:所制GIC具有低能耗性能、良好的真空安定性、较好的8毫米波动态衰减效果。