热处理调控氧化石墨烯薄膜层间距与离子筛分

编号：NMJS08174

篇名：热处理调控氧化石墨烯薄膜层间距与离子筛分

作者：林玲鑫 刘畅 马鹏飞 曹留烜

关键词： 氧化石墨烯薄膜 层间距 热处理 离子渗透

机构： 厦门大学能源学院

摘要： 采用热处理方法,通过改变热处理时间和温度来调控氧化石墨烯(GO)薄膜的层间距,并考察了Cs+、K+、Na+、Li+、Sr2+、Mg2+和Al3+离子在不同层间距的GO薄膜中的渗透性.结果发现:热处理后得到的GO薄膜在湿润状态下的层间距范围为0.57~1.31 nm,当薄膜层间距在0.55 nm左右时,水分子很难在薄膜中输运;此外,在不同层间距的GO薄膜中离子渗透性除了与离子水合直径有关之外,还与离子所带电荷以及离子脱水作用有关.该方法实现了Li+/Mg2+和Na+/Sr2+的分离,为离子的精确筛分、促进如盐湖提锂以及核废液处理等提供了参考.