氨分子对加热引起的石墨层间分离的影

编号：CYYJ03704

篇名：氨分子对加热引起的石墨层间分离的影

作者：成晓 余真珠 何燕

关键词： 石墨 氨分子 楔形结构 物理插层

机构： 青岛科技大学机电工程学院 青岛科技大学山东省高性能碳材料制备与应用工程实验室

摘要： 本文以含氨分子的氨水(NH3·H2O)、碳酸铵((NH4)2CO3)和碳酸氢铵(NH4HCO3)为插层剂,通过搅拌、超声、外热激发等方式将其插入石墨夹层中。利用氨分子的“楔形结构”实现插层剂的物理插层。研究了三种插层剂对加热引起的石墨层间分离的影响。结果表明,当使用NH3·H2O作为插层剂时,分离效果最好。此外,FT-IR结果表明没有形成C=N或CN键，这意味着含有氨分子的插层剂没有与石墨发生化学反应，它们是物理插入到层间的。