中国粉体网讯    近日，由武汉理工大学与江汉大学、长沙学院共同举办的首届石墨烯和C3N4光催化材料国际学术研讨会（International Workshop on Graphene and C3N4-based Photocatalysts，简称IWGCP）在校召开，会议主席由武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室余家国教授和美国肯特州立大学（Kent State University，USA）化学系的Mietek Jaroniec教授担任，来自美国、澳大利亚、德国等11个国家和地区的140多位专家学者及相关领域的师生参加。

　　开幕式上，余家国教授对本次会议参会代表和赞助方表示了欢迎和感谢，介绍了本次国际学术研讨会的举办目的和会议流程。本次会议旨在为本领域来自不同国家和地区的专家和同行们提供一个相互交流和学习的平台，并通过总结目前石墨烯和C3N4光催化材料的研究成果，为未来光催化材料制备技术和应用指明发展方向。



　　在为期4天的学术研讨会上，与会代表就石墨烯基光催化材料、C3N4基光催化材料、C3N4光催化材料的表面修饰、石墨烯和C3N4基光催化材料的第一性原理计算、光催化分解水产氢或产氧、光催化材料的光电化学性质、光催化材料在环境净化中的应用、光催化二氧化碳还原和染料敏化太阳能电池以及其它光催化材料等专题进行了深入和广泛的交流。本次会议共做大会报告8场，主题报告17场，邀请报告11场，口头报告6场，墙报展示68个，出版会议摘要论文集1本。经本次会议的国际顾问委员会投票决定，评选出优秀墙报奖5个，并向获奖的作者颁发了证书和奖金。活动期间，北京泊菲莱科技有限公司等仪器商还展示了用于光催化研究的产品。

　　据悉，会议组织者将接受参会人员的全文投稿，满足发表要求的论文将发表在SCI收录期刊Applied Surface Science(ASS，应用表面科学，影响因子2.538，根据2014年JCR期刊影响因子及分区情况，中科院SCI期刊分区表显示，ASS属于2区期刊)的“Graphene and C3N4-based Photocatalysts”(石墨烯和C3N4光催化剂)专辑上。