铜镍合金催化制备大面积均匀的少层石墨烯

编号：NMJS05495

篇名：铜镍合金催化制备大面积均匀的少层石墨烯

作者：刘平； 龙明生； 李铭；

关键词：石墨烯； 化学气相沉积； 铜镍合金； 层数可控；

机构： 华南师范大学物理与电信工程学院物理系广东省量子调控工程与材料重点实验室； 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所；

摘要： 少层(1~5层)大面积均匀石墨烯的可控制备,是实现石墨烯在逻辑器件和透明导电电极中使用的关键。本工作使用常压化学气相沉积(CVD)方法,在铜镍合金基底上生长出少数层大面积均匀石墨烯。通过调节铜镍合金的厚度以及控制生长过程中的温度、时间、碳源浓度,本工作实现了层数可控石墨烯的制备。光学显微术、拉曼光谱、紫外可见吸收光谱、高分辨率透射电镜表征结果表明:制备出的石墨烯是大面积均匀的高质量少层石墨烯。