MoO_3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究

编号：NMJS06747

篇名：MoO_3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究

作者：杜帅 张方辉

关键词： 氧化石墨烯(GO) MOO3 空穴注入层 有机电致发光器件(OLED)

机构： 陕西科技大学理学院

摘要： 研究了MoO3修饰氧化石墨烯（GO）作为空穴注入层的影响。采用旋涂的方法制备了GO,再真空蒸镀修饰层MoO3,得到了空穴注入能力强和透过率高的复合薄膜。MoO3的厚分别采用0、3、5和8nm。通过优化MoO3的厚度发现,当MoO3的厚为5nm时,复合薄膜的透过率达到最大值,在550nm的光波长下透光率为88%,且此时采用复合薄膜作为空穴注入层制备的结构为ITO/GO/MoO3（5nm）/NPB（40nm）/Alq3（40nm）/LiF（1nm）/Al（100nm）的有机电致发光器件（OLED）性能最佳。通过对OLED进一步的优化,改变Alq3的厚度,分别取50、60和70nm,测量其电压、电流、亮度、色坐标和电致发光（EL）光谱等参数发现,当Alq3的厚为50nm时器件性能最佳。最终制备了结构为ITO/GO/MoO3（5nm）/NPB（50nm）/Alq3（50nm）/LiF（1nm）/Al（100nm）的OLED,在电压为10V时,最大电流效率达到5.87cd/A,与GO单独作为空穴注入层制备的器件相比,提高了50%。