SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

编号：NMJS07368

篇名：SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

作者：刘喜锋 张鹏博 方小红 陈小源

关键词： 石墨烯 化学气相沉积 SIO2/SI 铜

机构： 中国科学院上海高等研究院薄膜光电工程技术研究中心 中国科学院大学 上海科技大学物质科学与技术学院

摘要： 以铜为催化剂,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和甲烷为碳源的化学气相沉积两步法,在SiO2/Si衬底上制备了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱分析了薄膜的层数和质量,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了薄膜的尺寸与表面形貌。实验探究了生长时间、氢气流量和气体总压强等工艺参数对石墨烯薄膜层数和质量的影响,最终在优化条件下制得10μm级质量较高的多层石墨烯薄膜。