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伊利诺斯大学研究出可一步合成石墨烯的方法
2016/05/06 点击 3515 次

中国粉体网讯  记者从伊利诺斯大学机械科学与工程系的一助教处了解到,目前石墨烯的应用受到创造互相连接、晶体管通道或设备终端的后合成法(固定和传递)的基础要求等的限制,而无法得到广泛推广,近日该大学的研究者们则研发出了一种快速、简便的固定石墨烯的方法,即通过使用模具和氧等离子体反应离子刻蚀,随后无聚合物载体直接转移到弹性基底。

 

石墨烯,一种二维的碳的同素异形体,受到了科学界的极大关注。集优异的机械性能、优良的载离子流动性、高的传热性、疏水性和潜在的低的制造成本等诸多优势于一身的石墨烯,为下一代的生物电阻抗、电力机械、光电子和热控应用提供了一种超棒的基底材料。

 

Sung WooNam,伊利诺斯大学机械科学与工程系的助教,解释道:“通过利用不同的前驱体和催化剂载体,使用化学气相沉积法直接合成大面积、均匀的、高品质的石墨烯薄膜已经取得了巨大的进步。然而,到目前为止,为了创造互相连接、晶体管通道或设备终端的后合成法(固定和传递)的基础要求限制了石墨烯更广泛的应用。”

 

Keong Yong,一名研究生,也是这篇文章(发表于Scientific Reports上的快速模具成型一步无聚合物载体石墨烯固定和直接转移柔性石墨烯器件)的第一作者,说道:“通过与最新进展添加和消减技术如3D打印和计算机数控铣削相结合,我们研发了一种简便且可伸缩的石墨烯固定技术,即通过激光切割模具制造。”

 

Yong补充道,“我们固定石墨烯的方法是基于一个已经应用于接触金属沉积的荫罩技术。这些模具不仅迭代快速成型简便快速,而且可重复使用,使成本效益复制。由于我们的方法既不涉及聚合物传输层,也不涉及有机溶剂,我们能够在不同柔性基底上得到无污染的石墨烯。”

 

Nam认为这种方法说明了一种克服由后合成法制备石墨烯微图案化引起限制的新的可能性。Yong展望了将这种简便石墨烯造型的方法公布“自己做”石墨烯基材设备发展的转变,包括柔性电路、元件和耐磨电子器件广泛的应用。

 

Nam说道,“这种方法允许快速设计迭代和模型重复,与其他制造技术相比,无聚合物造型技术促进高质量石墨烯的产生。我们已经展示了石墨烯可以制成不同的几何形状和尺寸,同时我们已经探索出图案化石墨烯直接转移的不同的基底。”


(来源:材料牛)


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