中国粉体网讯  今年来美国对华为等我国科技互联网企业的制裁愈演愈烈，在美国的步步紧逼之下，华为的芯片来源已经都被封死，虽然华为开启了南泥湾计划和天才少年计划，但是仍需要一定的时间，才能完成技术突破，国家也助力芯片行业的发展，中科院近期就传来了一个好消息，在碳基芯片领域取得突破，相比于现在国际通用的硅基芯片的性能，要高出十倍以上。

虽然都说在未来的5G时代，手机电脑都不需要多强的芯片了，手机只是屏幕，计算全都交给云端的服务器了，但目前芯片仍然是多数智能终端的大脑，无可替代。由于我国在芯片行业上技术相对落后，而美国则各种专利一大堆，我们想要在传统的硅基芯片上绕开美国的专利，完全自己研制出一套技术来，实在是难上加难，因为可用的方法大家都试过了，目前用的就是最优解，那如果换个材料呢？碳基芯片便走入了科研人员的目光。

传统的硅基芯片在工艺不断追求性能极致的压榨下，台积电掌握的4纳米工艺已经是世界顶尖了，而2纳米就是硅基芯片的工艺极限了，现在每提高一纳米，整个工业复杂程度都成几何倍数增加，成本越来越高，我国目前的半导体芯片技术只能完成14纳米的量产，现在光刻机也被限制进口了，想要生产5纳米以上的芯片，简直是扯犊子。

碳基芯片又叫做石墨烯芯片，大家对这种芯片应该比较陌生，但是石墨烯应该都听过，这是被誉为未来材料的神奇材料，华为在收到硅基芯片的技术突破后，也表现出了极大的兴趣，派出团队和中科院进行了深入的交流，若是真有能力制作出这种芯片，也将会成立研究小组，尽快将芯片的研发落到实处。

随着石墨烯芯片迎来的技术突破，芯片国产化或将迎来转折，硅基芯片的制作工艺被限定在2纳米上，而碳基芯片就不同了，在同样的工艺尺度下，碳基芯片的性能也是硅基芯片的是倍以上，在碳基芯片的研发将会是我国芯片国产化的关键着力点，不管是芯片的专利问题，制造高精度芯片的光刻机也是一台超级机器，能够实现在几纳米的尺寸作画，需要好几个国家的顶尖技术，和上百家企业的技术支持，目前没有任何一个国家能单独制作生产，未来就看碳基芯片能否在制作工艺上有所突破了。

（中国粉体网编辑整理/墨玉）

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